- 제목
- 위상 반전 마스크의 표면 개질 방법 및 이를 이용한 세정 방법
- 출원인
- 에스케이하이닉스 주식회사, 연세대학교 산학협력단
- 공고일
- 2021.03.02
- 출원일
- 2014.04.24
- 공개일
- 2015.11.03
- 게시글 내용
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본 발명은 위상 반전 마스크(phase shift mask; PSM)의 표면 개질 방법 및 이를 이용한 세정 방법에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 투광 기판 상에 위상 반전 패턴이 형성된 위상 반전 마스크의 표면을 플라즈마 또는 어닐링 공정을 통해 개질하는 방법 및 상기의 표면 개질 방법을 이용한 세정 방법에 관한 것이다.
- 자료출처 : KIPRIS (https://www.kipris.or.kr)
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