본 발명은 원적외선 방출 세라믹 조성물과 저강도 초음파를 이용한 염증 완화 및 개선용 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 저강도 초음파를 생성하여 염증의 발생부위에 조사하는 초음파 조사부, 세라믹 조성물을 가열하여 발생된 원적외선을 염증의 발생부위에 적용하는 온열자극부 및 상기 저강도 초음파의 주파수 대역, 세기 및 조사시간 중 적어도 하나와 상기 온열자극부의 온도를 제어하는 제어부를 포함하여 이루어진다. 상기의 염증 완화 및 개선용 장치는 염증부위를 원적외선이 다량 방출되는 세라믹 조성물로 온열자극하고, 세포의 움직임이나 성장요소 합성을 증가시키고 iNOS 단백질의 발현을 감소시키는 저강도 초음파로 조사하여 염증을 근본적으로 완화 및 개선하는 효과를 나타낸다.