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산학협력단

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제목
반도체 기판 세정용 조성물 및 세정방법
출원인
연세대학교 산학협력단
공고일
2024.04.25
출원일
2021.09.01
공개일
2023.03.08
게시글 내용
 본 발명은 III-V족 화합물 반도체 기판을 세정하기 위한 조성물 및 이를 이용한 세정방법에 관한 것으로, 본 발명에 따르면 III-V족 화합물에 대한 물질손실 및 표면 거칠기 증가를 유발하지 않고 기판의 변형 및 손상을 최소화 할 수 있어, 보다 향상된 홀 이동도 및 전도도를 구현하는 디바이스 제작에 매우 유리할 수 있다. 

반도체 기판 세정용 조성물 및 세정방법 대표 이미지

첨부
공개전문PDF 공고전문PDF
  • 자료출처 : KIPRIS (https://www.kipris.or.kr)
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