개시된 실시예는 광원, 2차원맵을 인가받아 광원에서 조사된 광을 위치별로 서로 다른 세기로 반사하여 반사광을 출력하는 디지털 이미지 미러, 위상 마스크의 활용 용도에 따라 미리 획득된 점 확산함수로부터 위상 마스크가 위치별로 상이한 높이의 고유 패턴을 갖도록 반사광의 위치별 세기를 조절하기 위한 2차원맵을 생성하는 2차원맵 생성기 및 반사광이 조사되고, 조사된 반사광의 위치별 광 세기에 따라 서로 다른 깊이로 경화되는 광 경화막이 배치되는 소재 거치대를 포함하여, 용도에 따라 요구되는 위상 마스크의 점 확산함수에 대응하는 고유 패턴을 갖는 위상 마스크를 저비용으로 용이하고 빠르게 대량 생산할 수 있는 렌즈리스 카메라를 위한 위상 마스크 제조 장치 및 방법을 제공한다.